光刻技术概述，中科大内部课程，内容详尽

主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈 述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光 刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、 分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。 • 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨 • 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生