资源简介
光学元件的表面由抗反射涂层(ARC)沉积,以减少光的反射。 在通过等离子体沉积ARC之前,需要对表面进行处理,以通过等离子体进行处理,以提高附着力和表面硬化。 通过比较RF和DC辉光放电处理过的CR-39聚合物薄膜,可以深入了解这些表面过程的机理。 通过显微镜技术检查经过等离子体处理的样品的表面特性,包括接触角测量,扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外(IR)光谱和折射率测量。 结果表明,等离子体处理在组成和形态上均改变了聚合物表面。 发现在等离子体处理之后表面润湿性增强。 已经发现,RF等离子体在CR-39表面改性方面比DC等离子体更有效,因为它向表面注入了更多的氧原子并使
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