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光刻技术概述,中科大内部课程,内
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上传人:ligangyuer
发布日期:2023-10-11
主要内容: 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术,陈述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光刻的需求,本课程会重点讲述在14nm及以下节点
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